理想很美好，现实很骨感。
想要完成光刻工厂的设想，难度极大。
绝对不比研发出一台高性能的EUV光刻机简单。
甚至，从某一种方面来说，难度还要更大。
然而，天才就是天才。
如果换成其他人的话，根本不可能有实现的可能性。
毕竟，将一款成熟的技术进行扩大化，可不是简单的扩大就行了。
要做到这一点，就必须要对该技术有极为深刻的了解和清楚的认知。
如此，才能将这个技术成功地扩大化，并应用在实际上。
等离子刻蚀机突破了，EDA设计软件成型了，先进设计方案也验证成功了，光刻胶也完成了。
现在，在半导体领域还差光学镜头、晶圆片、硅晶体等材料和设备了。
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