从光刻工厂实验工厂顺利完成芯片制造之后，发生的事情就和所预料的那样。
虽然说，王东来已经研发出了EDA设计软件和光刻胶之类的核心设备以及材料。
但这并不代表着我们就完全解决了光刻领域的技术难关。
就像是现在，在集合了全国的尖端人才，还是卡在了照明系统这里。
在光刻机里面，照明系统看似不起眼，实际却很重要。
可以这么说，能出现在光刻机里面的技术和材料，就没有一个是简单的。
工业技术皇冠的明珠，这绝对不是虚言。
回到euv光刻机上面，利用极深紫外光成像，做到原子极的光滑度，来保证光刻精度和能量效率。
镜面稍微有一点问题，或是凸起，或是凹陷，又或者尺寸不对，都会造成euv光线的严重散射和衍射，从而导致光线传播方向偏离，最后晶圆上的电路图案出现错位等问题。
芯片的良品率就不用想了，低的吓人。
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